大日本印刷は、海外初となる研究開発拠点をオランダのハイテクキャンパス アイントホーフェンに2025年9月に開設すると発表した。

ハイテクキャンパス アイントホーフェンの外観 © High Tech Campus Eindhoven

同社は、次世代半導体技術として注目される光電融合(Co-Packaged Optics)に関する研究開発を、同拠点における最初のテーマとして推進するとしている。2025年7月3日には、オランダ応用科学研究機構(TNO)と光電融合に関する共同研究開発契約を締結した。今後は、同キャンパス内にあるPITC(Photonic Integration Technology Centre)と連携し、光学材料の精密パターニング技術などの最先端技術の獲得や、関連パートナーの開拓を目指すという。

PITC研究施設内部 © Eindhoven University of Technology/PITC

大日本印刷は、2023~2025年度の中期経営計画において「半導体関連」を注力事業領域の一つと位置付けており、光電融合向けパッケージ部材の開発を進めてきた。今回の海外拠点設立により、グローバルな研究ネットワークの構築を図り、光電融合技術の実用化を加速するとしている。

さらに、同社はオランダ以外での研究開発拠点の新設についても検討を進める方針であり、オープンイノベーションによる新規事業創出と研究開発体制の国際化を強化していくという。